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HTY-DI1000B 水中總有機(jī)碳(TOC)分析儀

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產(chǎn)品編號(hào): 111910
品牌: 國(guó)產(chǎn)
型號(hào): HTY-DI1000B
單價(jià): 面議
起訂: 1 臺(tái)
供貨總量: 1 臺(tái)
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 北京
有效期至: 長(zhǎng)期有效
最后更新: 2023-05-12 10:38
瀏覽次數(shù): 170
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公司基本資料信息






詳細(xì)說(shuō)明
  HTY-DI1000B型總有機(jī)碳(TOC)分析一款微機(jī)化、智能化、高靈敏度的精密分析儀器,專門用于檢測(cè) 純化水、注射用水、超純水等水質(zhì)中總有機(jī)碳的濃度。HTY-DI1000B TOC分析儀具有多參數(shù)顯示功能,包括總有機(jī)碳值、電導(dǎo)率值、檢測(cè)批號(hào)、運(yùn)行模式等;還具備在線實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)功能,可以根據(jù)需要選取最短10秒的分析間隔時(shí) 間,最快10分鐘的離線檢測(cè)時(shí)間。歷史數(shù)據(jù)以圖形顯示,能更直觀地反映檢測(cè)水樣的有機(jī)碳值和電導(dǎo)率值的變化情況。

    HTY-DI1000B型TOC分析儀的工作原理是:樣品中的有機(jī)物在紫外線(UV)的作用下被氧化成二氧化碳,二氧化碳的測(cè)定采用了電導(dǎo)率檢測(cè)技術(shù)。TOC值則是根據(jù)水樣的電導(dǎo)率值在UV燈氧化前后的變化,通過(guò)相應(yīng)的運(yùn)算取得。
    HTY-DI1000B TOC分析儀的測(cè)試范圍是0.01µg/L到1000.00µg/L。本產(chǎn)品操作簡(jiǎn)單,維護(hù)費(fèi)用低,無(wú)需添加化學(xué)試劑。

特點(diǎn):

1.不需要添加酸試劑、氧化劑和任何氣體,無(wú)需附加日常維護(hù)費(fèi)。
2.高性能CPU,觸摸屏設(shè)計(jì),菜單選擇,密碼保護(hù)。操作簡(jiǎn)單、快捷、可靠。
3.針對(duì)TOC含量為1000 µg/L以下去離子水的檢測(cè)設(shè)計(jì),在線、離線檢測(cè)可以轉(zhuǎn)換使用。
4.超大的存儲(chǔ)功能,數(shù)據(jù)可定點(diǎn)查詢,USB接口輸出或打印。
5.檢測(cè)速度快,最短10 s的分析間隔時(shí)間,最快10 min的離線檢測(cè)時(shí)間。
6.同步檢測(cè)水樣的電導(dǎo)率值,將TOC分析儀與電導(dǎo)率儀合二為一。
7.體積小、重量輕、耗能少、攜帶方便。
8.具有自動(dòng)的上限報(bào)警輸出,超出設(shè)定的檢測(cè)結(jié)果時(shí)可以提醒操作者。
9.易于按照USP <643>和EP <2.2.44>以及《中國(guó)藥典》附錄Ⅷ R所要求的總有機(jī)碳檢測(cè)方法進(jìn)行系統(tǒng)適用性試驗(yàn)。
10.通過(guò)CMC認(rèn)證,浙制01010406號(hào)-2。

技術(shù)參數(shù):

1.電    源:220 V ± 22 V
2.電源頻率:50 Hz ± 1 Hz
3.額定功率:100 W
4.基本尺寸:14 cm × 32 cm × 32 cm(高×寬×深)
5.TOC檢測(cè)范圍:0.01 µg/L~1000.00 µg/L
6.電導(dǎo)率檢測(cè)范圍:0.055 µS/cm ~10.000 µS/cm
7.TOC檢測(cè)極限:0.01 µg/L(電導(dǎo)率< 1.0µS/cm)
8.檢測(cè)精度:±5%
9.分析時(shí)間:最短10 s的分析間隔時(shí)間,最快10 min的離線檢測(cè)時(shí)間
10.響應(yīng)時(shí)間:10 min以內(nèi)
11.樣品溫度:1~95 ℃
12.環(huán)境溫度:10~40 ℃  
13.內(nèi)部樣品流速:0.5 ml/min
14.相對(duì)濕度:≤ 85%
15.重復(fù)性誤差:≤ 3%

應(yīng)用領(lǐng)域:

1.該儀器可用于檢測(cè)純化水、注射用水和去離子水中有機(jī)碳的濃度。
2.該儀器可用于半導(dǎo)體行業(yè)中超純水TOC的檢測(cè)或其它行業(yè)水質(zhì)TOC分析。
3.該儀器具有在線檢測(cè)功能,可以在線監(jiān)測(cè)制藥工業(yè)的制水系統(tǒng)、半導(dǎo)體工業(yè)的超純水制備系統(tǒng)和晶片工藝過(guò)程、電廠去離子水制備過(guò)程等。

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